Монополия нидерландской компании ASML в выпуске литографических систем для производства чипов может пошатнуться.
Китайская госкомпания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group начала массовое производство установок иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) собственной разработки, сообщает Reuters со ссылкой на знакомый с ситуацией источник.
Малоизвестная компания, учрежденная в августе 2023 года с уставным капиталом в 7 млрд юаней, возглавила работу по ключевой технологии для выпуска современных полупроводников после того, как в ее состав вошли команды ведущих китайских стартапов в области литографии, рассказал источник Reuters. Среди них - Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) и Yuliangsheng, который в прошлом году начал тестирование прототипа DUV-машины.
По данным The Information, производство DUV-литографов налажено в Шанхае. В этом году планируется выпустить 5 машин, а в следующем - 20. Их получат ведущие китайские чипмейкеры, включая SMIC, Hua Hong Semiconductor и CXMT.
По словам источника Reuters, разработанной Aishengna установке еще предстоит пройти дополнительные испытания, и пока она существенно уступает по возможностям аппаратам нидерландской ASML. Ее передовые литографы работают в сверхжестком ультрафиолете (EUV) и используются для производства чипов с топологией 5 нм и тоньше. Литографы для глубокого ультрафиолета (DUV), выпуск которых начинает Китай, относятся к предпоследнему поколению такого рода устройств для более старых техпроцессов (7 нм).
Китайская полупроводниковая отрасль находится под санкциями США с весны 2019 года. Эти ограничения запрещают нидерландской ASML обслуживать и ремонтировать литографы, которые она продала Китаю.
