Китайская компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group приступила к выпуску первых установок иммерсионной DUV-литографии (Deep Ultraviolet) для производства полупроводников на фоне американских санкций. По данным источников Reuters, компания планирует выпустить ограниченную партию таких установок: около пяти машин в 2026 году и двадцать — в 2027-м. Первыми потенциальными пользователями должны стать крупнейшие китайские производители чипов — SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT). Сейчас эти компании используют литографическое оборудование нидерландской компании ASML, являющейся мировым лидером этого рынка.
После введения США и Нидерландами экспортных ограничений Китай столкнулся с ограничениями на закупку передового оборудования для производства микросхем. ASML не может поставлять в Китай наиболее совершенные DUV-установки без экспортных разрешений. Пока китайские разработки уступают оборудованию ASML. Новые установки относятся к классу DUV, который используется для производства современных чипов. Но самые передовые полупроводники с нормами 5 нм и ниже обычно требуют применения EUV-литографии (Extreme Ultraviolet), где ASML остается единственным коммерческим производителем в мире.
Появление китайских DUV-машин в моменте вызвало снижение акций ASML на 8%. Однако аналитики считают такую реакцию рынка преждевременной. «Я бы отнесся к этому с долей скептицизма, поскольку Китай, вероятно, сможет конкурировать только в наиболее простом сегменте рынка литографического оборудования», — заявил CNBC руководитель аналитического подразделения ODDO BHF Стефан Ури. Директор по ИИ исследовательской компании Futurum Group Ник Пейшенс отметил, что китайским разработчикам еще предстоит добиться сопоставимого уровня брака и надежности оборудования.
